半導體設備ZSX Primus IVi日本理學Rigaku熒光射線分析儀
半導體設備日本理學Rigaku熒光射線分析儀

掃描式熒光射線分析儀
底照式掃描熒光射線分析儀

SQX分析配備*的自動判斷功能

SQX分析是利用定性分析結果進行定量分析的無標準FP分析。

?評估重元素產生的高次譜線的影響，自動選擇最佳測量條件，實現更準確的SQX分析
?新增恒定角度測量設置模式，可在EZ掃描中檢測微量元素
?EZ配備超高速需要不到 2 分鐘測量時間的掃描模式
- 支持多層薄膜樣品的篩選分析
- 任何樣品薄膜都可以添加樣品薄膜校正
- SQX 散射線 FP 分析（針對粉末和聚合物）現在直徑為 30 毫米兼容
- 重新計算 SQX 時可以更改為 SQX 散射線 FP 分析

氦氣氣氛快速置換

通過在樣品室和光譜室之間添加真空隔板，可以縮短更換氦氣氛所需的時間。此外，通過增加液體樣品保持器檢測機構，將液體樣品引入真空氣氛中不會出現錯誤，并且可以放心地進行測量。

用于輕元素的氣體保護正比計數器 S-PC LE

氣體保護型檢測器在分析過程中產生零氣體排放。 探測器無需安裝氣瓶。

使用 WDX 系統進行點/映射分析

通過采用r-θ驅動樣品臺，X射線強度不會因測量點而變化，并且映射位置分辨率為100μm，可以分析印刷電路板上的布線等微小部件，各種材料中的夾雜物是。