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        日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備
        簡要描述:

        日本ULVAC愛發科NLD-5700半導體光電干法刻蝕設備
        日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備

        • 產品型號:NLD-5700
        • 廠商性質:經銷商
        • 更新時間:2024-11-25
        • 訪  問  量:67

        詳細介紹

        日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備

        日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備



        用于光電器件和MEMS的
        干法刻蝕設備NLD-5700

        用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統是配備磁中性線等離子體(NLD)源的用于大規模生產的干法刻蝕系統。 (采用磁中性線等離子體(NLD)的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備,由ULVAC原創開發。)


        特征

        • 通過在潔凈室內工作,潔凈室可以擴展到兩個房間(NLD、磁場ICP、CCP和灰化室)。

        • NLD是一種可以在空間和時間上控制的等離子體,因此干洗很容易。

        • 實現輕松的腔室維護。

        • 我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。

        • 半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統。

        用途

        • 光學器件(衍射光柵、調制器、光波導、光開關等)、不均勻微透鏡。

        • 流體路徑創建 (μ-TAS) 和光子晶體。


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